Co to jest RF PLASMA CLEANER?

To wydajny i szybki system do plazmowego trawienia, czyszczenia oraz modyfikacji powierzchni materiałów. W komorze reaktora, w prożni wytwarzana jest reaktywna plazma wysokiej częstotliwości (13,56MHz) z zadanymi z pulpitu operatorskiego parametrami. Możemy zmieniać moc, ciśnienie, czas oraz parametry modulacji szerokości impulsów.

RF PLASMA CLEANER Stosowany jest do czyszczenia podłoży na poziomie atomowym szklanych i krzemowych, metalowych oraz z tworzyw sztucznych. Czyszczenia szkiełek do badań mikroskopowych, oraz modyfikacji powierzchni materiałów, w celu poprawy przyczepności, zmiany właściwości hydrofilowych i innych.

Co wyróżnia nasze RF PLASMA CLEANER. Urządzenie posiada moc 300W co w połączeniu z reaktorem o niewielkiej pojemności 1,5l daje dużą gęstość mocy. Co przekłada się na poprawę efektywności i krótkie czasy trawienia. Urządzenie posiada wbudowany automatyczny układ dopasowujący (automatic matching network) co eliminuje potrzebę ręcznego dostrajania systemu do warunków panujących w komorze reaktora.

Specyfikacja

• TRYB PRACY – Typ beczkowy plazmy bezpośredniej
• Czestotkiwosc pracy – 13,56MHz
• Moc wyjsciowa – 300W
• Metoda dostrajania – Automatyczna
• Timer – 1s-3600s
• Pomiar prożni – Czujnik Piraniego
• Przyłącze prożniowe – KF16
• Komora reaktora – φ110×120mm
• Struktura elektrod – typ kondensatorowy, okładki zewnętrzne
• System kontroli – Panel operatorski HMI
• Zasilanie 230V AC jednofazowe, 700VA
• Wymiary zewnetrzne – (W×D×H) 450×350×200 mm
• Waga 10kG